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   知的財産権セミナー ‐中国・香港の知財制度と権利行使の実例‐   

わが国と海外諸国との経済的相互依存関係の深まりとともに、わが国企業の海外事業展開の中で、特許・商標・意匠等の知的財産の適切な保護が不可欠となってきています。 

開発途上国における知的財産権制度は近年急速に整備されてきたとはいえ、未だに不備な部分が多く残されている状況です。特にアジア太平洋地域では、商標・意匠を中心にわが国企業製品に対する模倣が多くなっています。こうした状況を受けてジェトロでは昨年度、海外における中小企業の知的財産権の侵害調査を実施しました。

本セミナーでは、諸外国と日本の知財制度の違いを検証するとともに、今後参考となりそうな権利行使の実例を選んでご紹介します。 この機会にぜひご参加ください。

日時
2009年6月25日(木曜) 14時00分〜16時30分

場所
川崎市産業振興会館 9階 第3研修室(川崎市幸区堀川町66-20)
JR「川崎駅」西口より徒歩8分、京急「川崎駅」より7分

内容
第一部:「中国・香港と日本の知的財産権制度の違い」 (60分〜70分程度)
 ジェトロ 知的財産課 アドバイザー 服部 正明

第二部:「中国・香港における権利行使の実例」(60分程度)
 ジェトロ 知的財産課 河野 円洋 

質疑応答 (20〜30分)


主催・共催
ジェトロ横浜(ジェトロ川崎国際ビジネス情報センター)

後援
川崎市、川崎商工会議所

参加費
無料

定員
100名 (先着順)※定員に達した場合のみご連絡します。

お申し込み方法
お申し込みフォーム に必要事項をご入力の上、お申し込み願います。

お申し込み締め切り
2009年6月24日(水曜)
開催日2009年6月25日
費用0 円
開催場所川崎市産業振興会館 9階 第3研修室(川崎市幸区堀川町66-20)
アクセス
関連サイト
備考
主催者ジェトロ横浜
住所
郵便番号
担当者
電話
ファックス
ホームページhttp://www.jetro.go.jp/events/[...]090605207-event
メール

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